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PECVD

更新時間：  2024-04-29

產品型號：  

產品報價：  

所  在  地：  合肥市(shi)新站區(qu)穎河路22號

產品特點：  PECVD化學氣(qi)相沉積(ji)多通(tong)道(dao)質(zhi)量流量控(kong)制系統一款多路質(zhi)量流量計控(kong)制系統，其(qi)質(zhi)量流量計和不(bu)銹鋼混氣(qi)罐(guan)都安裝在(zai)一個移動(dong)(dong)柜里，移動(dong)(dong)柜Z大可以(yi)承重1000Lbs，所(suo)以(yi)在(zai)與本公(gong)司大多數管式(shi)爐配套使(shi)用時，可將(jiang)設(she)備置于移動(dong)(dong)柜上(shang)以(yi)節約(yue)空(kong)間。

（聯系我時，請說明是在化工儀器網上看到的信息，謝謝！）
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產品概述
　　PECVD化學氣相沉積設備質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節約空間。
 
　　工作溫度：5~45?C
 
　　zui大壓力:3x106 Pa
 
　　精度: ±1.5% FS
 
　　線性:±(0.5-1.5)%F.S
 
　　重復精度: ±0.2%F.S.
 
　　流量范圍:
 
　　一路:1~199 SCCM
 
　　二路:1~499 SCCM
 
　　PECVD注意：其他流量范圍的可定制，需額外費用
 
　　化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統)常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備技術參數
 

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