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1200系(xi)列三溫(wen)區真(zhen)空管式爐LFT1200C批發 采用雙層風(feng)冷結構，爐體表(biao)面溫(wen)度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁(lv)微晶纖維(wei)高溫(wen)真(zhen)空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲(xiang)嵌延長爐體使用壽(shou)命，該設備設計為與手套箱對(dui)接使用，樣品可*處于相對(dui)對(dui)立的無(wu)水無(wu)氧環境

三(san)溫(wen)區(qu)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)氣氛回(hui)轉(zhuan)爐(lu)CVD系(xi)統報價 是集三(san)溫(wen)區(qu)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)回(hui)轉(zhuan)爐(lu)、三(san)路質(zhi)量(liang)流量(liang)計(ji)系(xi)統及低真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)機組(zu)而成(cheng)一種動態狀態下的化(hua)學氣相沉積系(xi)統。三(san)溫(wen)區(qu)開啟(qi)式真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)回(hui)轉(zhuan)管式爐(lu)采用雙層風冷結構，爐(lu)體表面(mian)溫(wen)度≤60℃，爐(lu)膛采用高(gao)純度氧化(hua)鋁微晶(jing)纖維高(gao)溫(wen)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)吸附(fu)成(cheng)型。

（含預熱器）雙(shuang)(shuang)溫區(qu)滑(hua)軌(gui)式CVD系統廠家 雙(shuang)(shuang)溫區(qu)滑(hua)軌(gui)爐(lu)可(ke)移(yi)動并可(ke)實(shi)現快速(su)升降溫；PLC控制(zhi)5路質子流量器，能夠精確控制(zhi)系統的(de)供氣；真空(kong)泵(beng)可(ke)實(shi)現對管式爐(lu)快速(su)抽真空(kong)。CVD（化學氣象(xiang)沉積系統）常用(yong)于表面(mian)材(cai)料(liao)生(sheng)長(chang)、沉積，是一款實(shi)驗室常用(yong)設備

1200系列三溫區真空管式爐(lu)(lu)LFT1200C 采用(yong)(yong)雙層風冷(leng)結構，爐(lu)(lu)體表面溫度≤60℃，爐(lu)(lu)膛采用(yong)(yong)高純度氧(yang)化(hua)鋁(lv)微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱(re)電阻(zu)絲(si)鑲嵌延(yan)長爐(lu)(lu)體使(shi)用(yong)(yong)壽(shou)命(ming)，該設備設計為與手套(tao)箱對接使(shi)用(yong)(yong)，樣品可*處于相(xiang)對對立的無(wu)水(shui)無(wu)氧(yang)環境

三(san)溫區(qu)真(zhen)(zhen)空氣氛(fen)回轉(zhuan)爐CVD系統 是集三(san)溫區(qu)真(zhen)(zhen)空回轉(zhuan)爐、三(san)路(lu)質量流量計系統及低真(zhen)(zhen)空機(ji)組(zu)而成一種動(dong)態狀態下的化(hua)(hua)學(xue)氣相沉積系統。三(san)溫區(qu)開啟式真(zhen)(zhen)空回轉(zhuan)管式爐采(cai)用雙層風冷(leng)結(jie)構，爐體(ti)表面(mian)溫度≤60℃，爐膛采(cai)用高純度氧化(hua)(hua)鋁微(wei)晶纖(xian)維高溫真(zhen)(zhen)空吸(xi)附成型。

（含預熱器(qi)）雙(shuang)溫區滑軌(gui)式(shi)CVD系(xi)統 雙(shuang)溫區滑軌(gui)爐可移動并可實(shi)現快速升降溫；PLC控(kong)制5路質子(zi)流量器(qi)，能夠精(jing)確控(kong)制系(xi)統的供氣；真空泵可實(shi)現對管式(shi)爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉(chen)積系(xi)統）常用于表面(mian)材料(liao)生長、沉(chen)積，是(shi)一款實(shi)驗室常用設備